应用领域:除臭净化系列服务范围:一体化服务服务时间:全天是否定制:跟进治理方案定制是否进口:否
工业废气利用排风设备输入到本净化设备后,净化设备运用高能UV紫外线光束及臭氧对工业废气进行协同分解氧化反应,使工业废气物质其降解转化成低分子化合物、水和二氧化碳,再通过排风管道排出室外。利用高能-C光束裂解工业废气中的分子键,破坏的核酸(DNA),再通过臭氧进行氧化反应,彻底达到净化及杀灭的目的.从净化空气效率考虑,我们选择了-C波段紫外线和臭氧发结合电晕电流较高化装置采用脉冲电晕放吸附技术相结合的原理对有害气体进行消除,其中-C波段紫外线主要用来去除硫化氢、氨、苯、、、、乙酸乙酯、乙烷、、尿烷、树脂等气体的分解和裂变,使**物变为无机化合物。
光催化氧化vocs废气处理设备*恶臭气体进行的预处理,如加温、加湿等,vocs废气处理设备工作环境温度在-30度~95度之间,湿度在30%~98%、PH值在2~13范围均可正常工作,*添加其他物质及药剂参与处理,光催化氧化除臭设备无任何机械装置,无运动噪音,*专人管理和日常维护,只需要作定期检查维护,维护和能耗成本低,风阻低,设备在运行过程中,会瞬间产生大量的强 ** 性UV光线,严禁人员眼睛或皮肤钟暴露在光源中,需在有安全防护措施的情况下视察。
光催化氧化装置 光催化氧化法是目前研究较多的一项氧化技术。所谓光催化反应,就是在光的作用下进行的化学反应。光化学反应需要分子吸收特定波长的电磁辐射,受激产生分子激发态,然后会发生化学反应生成新的物质,或者变成引发热反应的中间化学产物。光催化降解中较常见的是在污染体系中投加一定量的光敏材料,同时结合一定量的光辐射,使光敏半导体在光的照射下激发产生电子-空穴对,吸附在半导体上的溶解氧、水分子等与电子-空穴作用,产生·HO等氧化性强的自由基,再通过与污染物之间的羟基加和、取代、电子转移等形式使污染物全部或接近全部矿化。 净化主机纳米光催化氧化部分工作原理
该设备核心中的纳米光催化触媒材料(GC-100)是一种吸收光能后,能在其表面产生催化反应的物质,其功能类似于植物的叶绿素。当特定纳米波长的紫外光照射光催化触媒材料(GC-100)时,其表面发生光催化氧化还原反应。光催化触媒材料(GC-100)吸收光子后在其表面产生电子(E—)和空穴(H+),将吸收的光能转化成化学能,即具有光催化作用。
当光催化触媒材料(GC-100)与空气中的水接触时,表面就吸附H2O、O2、OH—,H2O、 OH—被空穴(H+)所氧化,O2被电子(E—)还原,反应室如下:
H2O+ H+ → OH. + H+ O2+ E— → O2—OH—基团的氧化能力较强,使**物氧化,终分解为水和CO2。
光催化氧化除臭设备的使用范围是很广泛的,可以在污水处理站,垃圾场处理厂等等很多场合中使用。它因为性能好,所以具有很广泛的使用范围。它在运行的时候,非常稳定,具有很高的可靠性。